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J-GLOBAL ID：200903033227190516

非付着性層を有するスタンプ、該スタンプの形成方法及び修復方法

Inventor： ヘイダリ,ババック ,  リング,トルビョールン
Applicant, Patent owner： ウブドゥカット アクティエボラーグ
Agent (5)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003511035
Publication number (International publication number)：2004534663
Application date： Jul. 04, 2002
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

ナノスケールのパターンを転写するのに使用するためのスタンプが、非付着性単分子層を有している。非付着性層は、スタンプの表面に共有結合された分子鎖を含み、これらの分子鎖はそれぞれ1以上のフッ素含有基を含む。それぞれの分子鎖は基Qを含有しており、基Qは、分子鎖内のその他の結合並びにスタンプ表面に分子鎖を結合する共有結合よりも弱い結合を含む。基Q内の前記結合の分断が基Q1を形成し、このQ1は、スタンプ表面上に残されている分子鎖部分に結合され、フッ素含有化合物と反応することにより、非付着性層を修復することができる。ナノスケールのパターンを転写するのに使用するためのスタンプの製造方法において、スタンプに上記分子鎖を設ける。上記スタンプの損傷された非付着性単分子層の修復方法において、スタンプが、基Q1と反応することができるカップリング末端と、修復用試薬の他方の末端に配置されたフッ素含有基とを有する修復用試薬で処理される。

Claim (excerpt)：

ナノスケールのパターンを転写するのに使用するための、非付着性単分子層を有するスタンプであって、前記非付着性層が、該スタンプの表面に共有結合された分子鎖を含み、該分子鎖がそれぞれ1以上のフッ素含有基を含み、それぞれの該分子鎖が基Qを含有しており、該基Qが、該分子鎖内のその他の結合並びに該スタンプ表面に該分子鎖を結合する該共有結合よりも弱い結合を含み、該基Q内の前記結合の分断が基Q1を形成し、該基Q1が、該スタンプ表面上に残されている分子鎖部分に結合され、フッ素含有化合物と反応することにより、該非付着性層を修復することができることを特徴とする、スタンプ。

IPC (2)：

B82B1/00 ,  H01L21/027

FI (2)：

B82B1/00 ,  H01L21/30 502D

F-Term (17)：

4F209AC03 ,  4F209AD27 ,  4F209AD33 ,  4F209AF16 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG21 ,  4F209AG26 ,  4F209PA11 ,  4F209PB01 ,  4F209PC03 ,  4F209PC20 ,  4F209PH02 ,  4F209PH21 ,  4F209PN20 ,  4F209PQ20 ,  5F046AA28