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J-GLOBAL ID：200903033229889398

ボールト形状のターゲット及び高磁界マグネトロン

Inventor： パーブラム ゴパルラージャ ,  ジャミング フ ,  フーセン チェン ,  ギリッシュ ディグジット ,  ゼング ズー ,  サングケレン アスレヤ ,  ウェイ ディー ワン ,  アショック シンハ
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001051195
Publication number (International publication number)：2001316809
Application date： Jan. 22, 2001
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ・スパッタ・リアクター用のターゲット及びマグネトロンを提供すること。【解決手段】 ターゲット12は、スパッタコーティングされるべきウエハ20に面する環状ボールト18を有する。ボールトの周りに配置された磁気手段によって、ボールトの大きなボリューム上に広がるプラズマを維持する磁界を生成する。好ましくは、マグネトロン14は、2つのボールトの側壁の後ろに設けられた反対極性の環状磁石及びボールトのルーフに沿って走査される反対極性の嵌め込まれた磁石の小さな閉じた不平衡なマグネトロンを有する。集積化された銅のビアを充填する方法は、銅の高度にイオン化されたスパッタ堆積の第1ステップと、銅の、よりニュートラルな低いエネルギーのスパッタ堆積の第2ステップと、ホールへ銅を電気メッキする第3ステップを有する。

Claim (excerpt)：

マグネトロン・プラズマ・スッパタ・リアクターであって、中心軸の周りに配置され、スパッタコーティングされる基板を収容するために構成されたプラズマチャンバと、前記中心軸の周りに、且つ前記基板に面するターゲットの第1の側に設けられた少なくとも1つの環状ボールト、前記ターゲットの裏側には設けられたウエルを有するターゲットであって、前記ボールトは環状の内側側壁、対向した環状の外側側壁及び上部壁とを有し、前記ボールトの深さと前記ボールトの幅のアスペクト比は少なくとも1:2であり、前記ターゲットは、前記プラズマチャンバないにプラズマを形成するために電力を受けるように形成されており、且つ前記内側側壁から前記外側側壁へ延びる磁力線を有する磁界を形成するために、前記ウエルに少なくとも部分的に設けられた磁気手段とを有することを特徴とするマグネトロン・プラズマ・スッパタ・リアクター。

IPC (7)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/35 ,  H01J 37/34 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/768

FI (7)：

C23C 14/34 B ,  C23C 14/35 C ,  H01J 37/34 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/288 E ,  H01L 21/90 A