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J-GLOBAL ID：200903033234422708
フオトマスク及び半導体装置の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991272752
Publication number (International publication number)：1993113658
Application date： Oct. 21, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 ペリクルを装着したフォトマスクを用いた半導体装置製造において、量産性の低下と、フォトマスクやペリクル面への異物付着を招くことなく、ペリクル、ペリクル枠、及び、フォトマスクで囲まれる領域と、外気との通気性を確保し、ペリクル面の平坦性を維持する。【構成】 フォトマスクへ、ペリクルを装着するためのペリクル枠側面の少なくとも一部に開孔部を、前記側面に向かって斜め方向に貫通して設け、その内面を粘着状にする。
Claim (excerpt)：
ペリクルを装着したフォトマスクにおいて、前記フォトマスクへ、ペリクルを装着するためのペリクル枠側面の少なくとも一部に開孔部を設け、その内面を粘着状にしたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
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