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J-GLOBAL ID：200903033248184435

ベントガス流中の塩化物の回収法

Inventor： リチャード アンソニー バージ ,  オーエン アルバート ヘング ,  トッド エリック ランジ
Applicant, Patent owner： ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
Agent (1)： ウオーレン・ジー・シミオール
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995042637
Publication number (International publication number)：1995315829
Application date： Mar. 02, 1995
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ガスベント流中に存在する塩を回収する方法の提供。【構成】 該方法は、塩化水素およびヒドロシランからなるガスベント流を塩素化触媒と接触させて、より塩素化したシランを回収することからなる。ヒドロシランの塩素化は、生成するクロロシランの置換基として塩化水素の塩素を捕え、そして易凝縮性クロロシランを提供する。

Claim (excerpt)：

(A)塩化水素および式HaSiCl4-a(式中、aは1〜4である)によって表わされるシランからなるベントガスを塩素化触媒と30°〜400°Cの範囲内の温度で接触させることによって、Siに結合した水素を塩素と置換させて、より塩素化されたシランを生成し;そして(B)該より塩素化したシランを回収することからなることを特徴とする塩化水素としてベントガス流中に存在する塩化物イオンの回収法。

IPC (4)：

C01B 33/107 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-367507