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J-GLOBAL ID:200903033268470590

非線形光学材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994206536
Publication number (International publication number):1996069023
Application date: Aug. 31, 1994
Publication date: Mar. 12, 1996
Summary:
【要約】【構成】 高分子マトリックス中に、光照射若しくは光照射と熱処理との組合せにより可逆的又は非可逆的に光吸収変化を示す化合物を、材料全重量に基づき30〜90重量%の割合で含有させて成る非線形光学材料である。【効果】 高速で二次元空間での非線形光学特性を制御することが可能であり、かつ経時安定性及び加工性に優れ、オプトエレクトロニクスや将来の光コンピュータなどの基幹素材として有用である。
Claim (excerpt):
高分子マトリックス中に、光照射若しくは光照射と熱処理との組合せにより可逆的又は非可逆的に光吸収変化を示す化合物を、材料全重量に基づき30〜90重量%の割合で含有させたことを特徴とする非線形光学材料。
IPC (2):
G02F 1/35 ,  C09K 9/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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