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J-GLOBAL ID：200903033278776370

連続ガス焼入れ方法及びシステム

Inventor：
谷口 裕久

About 谷口 裕久


Applicant, Patent owner：
谷口 裕久

About 谷口 裕久


Agent (1)： 三好 秀和 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002039955
Publication number (International publication number)：2003239016
Application date： Feb. 18, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：
【要約】【課題】 金属のガス焼入れを歪少なく、効率良く、しかも低資源で行うことができる連続ガス焼入れ方法及びシステムを提供する。【解決手段】 最終焼入れ温度まで加熱できる1又は複数の加熱炉と1つのガス焼入れ専用装置とを、直接又は間接、或いは直列又は並列に連係し、最終加熱炉又は各加熱炉で焼入れ温度に加熱されたワークを真空ないし不活性ガス雰囲気を介して当該加熱炉から前記ガス焼入れ専用装置へ移動させ、前記ガス焼入れ専用装置で変態点温度での等温保持を含めて順次ガス焼入れすることを特徴とする連続ガス焼入れ方法及びシステム。
Claim (excerpt)：
最終焼入れ温度まで加熱できる1又は複数の加熱炉と1つのガス焼入れ専用装置とを、直接又は間接、或いは直列又は並列に連係し、最終加熱炉又は各加熱炉で焼入れ温度に加熱されたワークを真空ないし不活性ガス雰囲気を介して当該加熱炉から前記ガス焼入れ専用装置へ移動させ、前記ガス焼入れ専用装置で冷却し順次ガス焼入れすることを特徴とする連続ガス焼入れ方法。
IPC (4)：
C21D 1/62 ,  C21D 1/00 119 ,  C21D 1/773 ,  C21D 11/00 105
FI (4)：
C21D 1/62 ,  C21D 1/00 119 ,  C21D 1/773 D ,  C21D 11/00 105
F-Term (9)：
4K034AA19 ,  4K034FA02 ,  4K034FB15 ,  4K038BA02 ,  4K038CA01 ,  4K038CA03 ,  4K038DA03 ,  4K038EA03 ,  4K038FA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 特開昭63-148088
  • 特開平3-257119
  • 特開平3-257119
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