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J-GLOBAL ID:200903033290913374

陽極酸化ポーラスアルミナ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001084709
Publication number (International publication number):2002285382
Application date: Mar. 23, 2001
Publication date: Oct. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 35nm以下の細孔周期を有する陽極酸化ポーラスアルミナを提供する。【解決手段】 一旦陽極酸化を行った後、地金Al層を除去した酸化物層あるいはそれと同一の幾何学構造を有する鋳型により、他のAl基板に前記鋳型の規則構造を転写し、該転写部分を孔発生点として陽極酸化することにより元の細孔周期の1/2に対応する細孔周期を有する陽極酸化ポーラスアルミナとするか、又は、一旦陽極酸化を行った後、酸化物被膜層を除去したAl地金あるいはそれと同一の幾何学構造を有する鋳型により、他のAl基板に前記鋳型の規則構造を転写し、該転写部分を孔発生点として陽極酸化することにより元の細孔周期の1/√3に対応する細孔周期を有する陽極酸化ポーラスアルミナとする。
Claim (excerpt):
35nm以下の細孔周期を有することを特徴とする陽極酸化ポーラスアルミナ。
IPC (2):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/16
FI (2):
C25D 11/04 302 ,  C25D 11/16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 感光性平版印刷版
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-269774   Applicant:三菱化学株式会社, コニカ株式会社
  • 感光性平版印刷版
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-269773   Applicant:三菱化学株式会社, コニカ株式会社
  • 多孔性陽極酸化アルミナ膜の作製方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-229314   Applicant:日本電信電話株式会社

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