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J-GLOBAL ID：200903033297128745

光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置

Inventor： 安達 正明
Applicant, Patent owner： 金沢大学長
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001267786
Publication number (International publication number)：2003075134
Application date： Sep. 04, 2001
Publication date： Mar. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】測定対象の表面の凹凸形状を、高い精度で、高速、かつ非接触で測定可能な形状測定装置を提供する。【解決手段】この発明の形状測定装置1は、僅かに波長の異なる2つのフラッシュ光を、所定時間間隔t1で測定対象物Oに照射し、その2つの光からの反射光と参照鏡52からの反射光とにより生成される干渉光をカメラ42で撮像する際に、2つのフラッシュ光が照射される間隔t2毎に測定対象物が2つのフラッシュ光が進行する方向に沿って移動させる位相シフト量を、2nπ(nは、1以上の整数)±π/2を中心とした幅±π/4前後としたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

位相シフト法を用いて測定対象物からの反射光と参照鏡からの反射光とにより形成される干渉像の位相値を計算し、この位相値から光路差を求め、その光路差から測定対象物の形状を求める形状測定方法において、測定対象物に、僅かに波長の異なる2つのフラッシュ光を、所定時間間隔t1で照射し、その2つの光からの反射光と参照鏡からの反射光とにより生成される干渉光をカメラで撮像する際に、2つのフラッシュ光が繰り返し照射される時間間隔t2毎に、測定対象物を、2つのフラッシュ光が進行する方向に沿って移動させる位相シフト量を、2nπ(nは、1以上の整数)±π/2を中心とした±π/4以内としたことを特徴とする形状測定方法。

F-Term (11)：

2F065AA03 ,  2F065AA56 ,  2F065FF51 ,  2F065GG03 ,  2F065HH03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12