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J-GLOBAL ID:200903033316239383

放射線ビーム照射方法および装置並びに放射線断層撮影装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998234258
Publication number (International publication number):2000060841
Application date: Aug. 20, 1998
Publication date: Feb. 29, 2000
Summary:
【要約】【課題】 スライス厚に無関係なレファレンス信号等を得る放射線ビーム照射方法および装置、並びに、そのような放射線ビーム照射装置を備えた放射線断層撮影装置を実現する。【解決手段】 放射線照射手段20と放射線検出素子アレイ24の間の被検体8が存在する空間には、放射線ビームの厚みを可変にして照射し、レファレンスチャンネル14には放射線ビームの厚みを固定にして照射する。
Claim (excerpt):
放射線照射手段が照射する放射線をコリメータを通して進行方向に垂直でかつ互いに垂直な2つの方向でそれぞれ幅と厚みをなし厚みが幅よりも小さい放射線ビームとし、レファレンス用放射線検出素子を含む複数の放射線検出素子を有する放射線検出素子アレイに照射する放射線ビーム照射方法であって、前記コリメータにより前記レファレンス用放射線検出素子を除く前記複数の放射線検出素子に前記放射線ビームの厚みを可変にして照射する、ことを特徴とする放射線ビーム照射方法。
IPC (2):
A61B 6/03 350 ,  A61B 6/03 320
FI (2):
A61B 6/03 350 G ,  A61B 6/03 320 K
F-Term (5):
4C093AA22 ,  4C093BA03 ,  4C093CA01 ,  4C093CA50 ,  4C093EA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-034153
  • X線撮像装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-233531   Applicant:株式会社島津製作所

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