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J-GLOBAL ID:200903033341556326

高光学濃度極薄有機質ブラックマトリクスシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萼 経夫 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000523583
Publication number (International publication number):2001525561
Application date: Dec. 01, 1998
Publication date: Dec. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高光学濃度極薄有機質ブラックマトリクスシステムを提供する。【解決手段】 1μm以下の膜厚で高い、即ち3.0より大きい光学濃度のブラックマトリクスが、ポリイミドポリマービヒクルについてピグメントブラック7と有機質染料または染料混合物とを混合した結果として改良した安定性および貯蔵寿命を有することを開示する。
Claim (excerpt):
1μm以下の厚さでコートしたとき3.0以上(3.5以上)の光学濃度を有する、フォトリソグラフィー画像形成性ブラックマトリクスコーティング材料であって、 a.ポリイミド前駆体ビヒクルおよびそのための溶媒システムと、 b.可溶性光吸収染料または染料混合物であって、前記ビヒクルおよび溶媒システム中に実質的に完全に溶解し、また紫外ないし赤外の広いスペクトルにわたり実質的に全ての光を吸収することに有効である染料または染料混合物と、および c.高性能高色相の表面処理されたカーボンブラック顔料、およびニュートン分散におけるそのための適した分散剤から本質的になるブラックマトリクスコーティング材料。
IPC (6):
G03F 7/004 505 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/11 ,  C09D179/08 ,  G02F 1/1335
FI (6):
G03F 7/004 505 ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/11 ,  C09D179/08 Z ,  G02F 1/1335
F-Term (24):
2H025AA00 ,  2H025AA10 ,  2H025AB13 ,  2H025DA40 ,  2H042AA06 ,  2H042AA09 ,  2H042AA26 ,  2H048BA02 ,  2H048BA53 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FB13 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091LA04 ,  2H091LA12 ,  4J038DJ031 ,  4J038HA026 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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