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J-GLOBAL ID：200903033347771229
投影露光方法及び投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992134303
Publication number (International publication number)：1993304075
Application date： Apr. 27, 1992
Publication date： Nov. 16, 1993
Summary：
【要約】【目的】 複数のチップを投影露光する操作をくり返すとき、或る1回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるが少なくとも1つの被露光有効チップは被露光材上に存在して有効に露光し得る場合には、それについて適正な条件を定めて投影露光を行うことができる投影露光方法及び投影露光装置を提供すること。【構成】 或る1回の投影における全投影2は被投影ウェハ10から外れるとともに少なくとも1つの被露光有効チップは被露光ウェハにある場合、該ウェハにあるチップ上のフォーカスデータを測定してそのフォーカスデータにより投影露光を行う投影露光方法及び装置。
Claim (excerpt)：
1回の投影で複数のチップを投影露光する操作をくり返す投影露光方法において、或る1回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるとともに少なくとも1つのチップはウェハにある場合、該ウェハにあるチップ上のフォーカスデータを測定してそのフォーカスデータにより投影露光を行うことを特徴とする投影露光方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
Cited by examiner (10)
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