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J-GLOBAL ID：200903033388530929

全反射蛍光X線分析方法および分析装置

Inventor： 迫 幸雄
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 杉本 修司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993131370
Publication number (International publication number)：1994317546
Application date： May. 06, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 全反射蛍光X線分析において、高輝度のX線源を用いなくても、より精度の高い分析を行う。【構成】 試料表面51に対して微小な入射角度αをなす平面P上において、異なる光路から一次X線B20 ,B21 を集光させて、試料表面51に照射する。

Claim (excerpt)：

試料表面に向って集光する一次X線を微小な入射角度で試料表面に照射し、上記試料表面に対向するX線検出器により、上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出して、上記X線検出器での検出結果に基づいて上記蛍光X線を分析する全反射蛍光X線分析方法であって、上記試料表面に対し微小な入射角度をなす平面上において、異なる光路から上記一次X線を集光させる全反射蛍光X線分析方法。