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J-GLOBAL ID：200903033389714730

露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法

Inventor：
工藤 威人

About 工藤 威人


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997151985
Publication number (International publication number)：1998340846
Application date： Jun. 10, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：
【要約】【課題】、連続的な結像性能の補正を振動を伴うことなく可能とすること、或いは投影光学系の開口数の増大及び結像性能の補正を両立すること【解決手段】レチクルR上に設けられたパターンを照明する照明光学系ILと、このパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系Tとを有し、投影光学系と感光性基板との間の光路中の少なくとも一部分に位置する液体LQを介して露光を行う露光装置であって、液体の屈折率を調整するための屈折率調整手段を有する。
Claim (excerpt)：
レチクル上に設けられたパターンを照明する照明光学系と、該パターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを有し、前記投影光学系と前記感光性基板との間の光路中の少なくとも一部分に位置する液体を介して露光を行う露光装置において、前記液体の屈折率を調整するための屈折率調整手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3)：
H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-339510   Applicant：キヤノン株式会社
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開昭62-065326
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Cited by examiner (5)
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-339510   Applicant：キヤノン株式会社
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開昭62-065326
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