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J-GLOBAL ID：200903033392341766

157nmリソグラフィー用のレジスト材料

Inventor： シオドー エイチ.フェディニシン
Applicant, Patent owner： マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001562262
Publication number (International publication number)：2003524211
Application date： Feb. 26, 2001
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：

【要約】光酸発生剤と脂肪族ポリマーとを含む放射線感受性樹脂組成物であって、前記脂肪族ポリマーが1個以上の電子求引基を有し、この電子求引基が保護されたヒドロキシル基を有する炭素原子に隣接しているか又はこの炭素原子に結合しているかのいずれかであり、保護基が現場で発生した酸の存在下で変化しやすいものである、前記放射線感受性樹脂組成物が記載される。この放射線感受性樹脂組成物は、プラズマエッチングによるイメージ転写に好適なレジストとして用いることができ、高い解像度及び選択性で、高い再現性で、高い精度のエッチングイメージを得ることを可能にすることができる。

Claim (excerpt)：

光酸発生剤と保護されたヒドロキシル基を有する脂肪族ポリマーとを含むポジ型感光性組成物であって、前記脂肪族ポリマーが保護されたヒドロキシル基を有する炭素原子に隣接した電子求引基及び/又は前記炭素原子に結合した電子求引基を1個以上有し、前記保護基が現場で発生した酸の存在下において変化しやすいものである、前記ポジ型感光性組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (11)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17