可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜とその作製法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 桜井周矩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004029331
Publication number (International publication number)：2005218957
Application date： Feb. 05, 2004
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：

【課題】厚さが数百nm程度の非常に薄い膜状で、可視光下で光触媒性を有する硫黄添加二酸化チタン膜の形成方法を提供することである。【解決手段】二硫化チタン(TiS2)を焼成して作製したターゲット材を用い、これにレーザー蒸着法により硫黄を不純物として添加したことからなる、可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜の作製法であり、ターゲット材が、圧縮成形した二硫化チタンを温度350〜450°Cの空気中で焼成することにより作製され、可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜を形成する基板温度が、350〜450°Cに制御され、真空中で硫黄の蒸着を行う。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

硫黄を不純物として添加した可視光応答型二酸化チタン光触媒薄膜。

IPC (5)：

B01J35/02 , B01J27/02 , B01J37/02 , C23C14/08 , C23C14/34

FI (5)：

B01J35/02 J , B01J27/02 M , B01J37/02 301P , C23C14/08 E , C23C14/34 A

F-Term (24)：

4G047CA03 , 4G047CB04 , 4G047CC03 , 4G047CD02 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BD08A , 4G069BD08B , 4G069CA10 , 4G069EA08 , 4G069ED02 , 4K029AA08 , 4K029AA24 , 4K029BA48 , 4K029BB08 , 4K029BD00 , 4K029CA01 , 4K029DB05 , 4K029DB08 , 4K029DB20 , 4K029EA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

可視光応答型光触媒材料の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-161069 Applicant：日本原子力研究所
光触媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-018551 Applicant：株式会社豊田中央研究所
防汚材およびタッチパネル
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-213337 Applicant：株式会社豊田中央研究所

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