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J-GLOBAL ID：200903033429569614

磁気記録媒体の製造方法

Inventor： 清水 貴宏 ,  中沢 勇治 ,  望月 潤也 ,  横澤 照久 ,  山岸 稔
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山田 稔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994132332
Publication number (International publication number)：1996007268
Application date： Jun. 15, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 多数個取りの静止型スパッタ法による磁気記録媒体の製造方法において、各ターゲット位置毎のカーボン保護膜の膜質不均一を低減すること。【構成】 多数個取りのカーボンスパッタ成膜法において、防着板枠22によってチャンバー内がカーボンターゲットTA(1,1)〜TA(3,3)毎のセルC(1,1)〜C(3,3)に分かれてそれぞれ独立のプラズマ発生室を形成した状態で、各基板Sに対し一斉にカーボンスパッタ成膜が行われる。メタンガス(CH4 )は良くCH3-と3H+ に電離し、各ターゲットの周辺の広範囲にブラズマ領域が形成されるが、そのプラズマ領域はセルC(1,1)〜C(3,3)毎に限定されているため、プラズマが相互に繋がって干渉し合うことが起こらず、従って、各ターゲット毎でプラズマ密度分布を安定化できる。このため、多数個取りの静止型スパッタ法でも各磁気記録媒体のカーボン保護膜の膜質(DLC特性)のバラツキを低減できる。

Claim (excerpt)：

チャンバー内に配列された複数のカーボンターゲットの各々に基板を対向静止させ、前記各基板に対し一斉にカーボン保護膜をスパッタ成膜するカーボンスパッタ工程を有する磁気記録媒体の製造方法において、前記カーボンスパッタ工程は、防着板を用いて隣接する前記カーボンターゲット同士の間を空間的に仕切り、前記カーボンターゲット毎のプラズマ発生室を形成した状態でスパッタ成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (2)：

G11B 5/84 ,  C23C 14/34