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J-GLOBAL ID：200903033436422378

反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法及び反射防止物品

Inventor：
北條 美貴子

About 北條 美貴子

, 
鈴木 智之

About 鈴木 智之


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002377705
Publication number (International publication number)：2004205990
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：
【課題】光の波長よりも小さい周期構造により反射防止性能を発揮する、非常に微細な微細凹凸パターンを作製する方法を提供する。また、当該微細凹凸パターンを備える反射防止物品を提供する。【解決手段】微細凹凸の頂点における周期PMAXと、可視光の波長帯域の真空中における最小波長λMINとの間に、PMAX≦λMINなる関係が成立し、反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法であって、支持体上に固体状の硬化性樹脂組成物からなる凹凸パターン形成層を設けた凹凸パターン受容体を用意し、その表面にスタンパーを圧接して凹凸パターンを形成した後、当該凹凸パターン形成層を硬化させることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
微細凹凸の頂点における周期PMAXと、可視光の波長帯域の真空中における最小波長λMINとの間に PMAX≦λMIN なる関係が成立し、反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法であって、 支持体上に固体状の硬化性樹脂組成物からなる凹凸パターン形成層を設けた凹凸パターン受容体を用意し、その表面にスタンパーを圧接して凹凸パターンを形成した後、当該凹凸パターン形成層を硬化させることを特徴とする、微細凹凸パターン作製方法。
IPC (3)：
G02B1/11 ,  B29C33/38 ,  B29C45/16
FI (3)：
G02B1/10 A ,  B29C33/38 ,  B29C45/16
F-Term (31)：
2K009AA12 ,  2K009BB11 ,  2K009DD06 ,  2K009DD15 ,  4F202AA36 ,  4F202AF01 ,  4F202AF15 ,  4F202AG28 ,  4F202AH38 ,  4F202CA09 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD23 ,  4F202CD30 ,  4F202CK11 ,  4F202CK41 ,  4F202CK52 ,  4F202CL42 ,  4F206AA36 ,  4F206AF01 ,  4F206AF15 ,  4F206AG28 ,  4F206AH38 ,  4F206AH79 ,  4F206JA03 ,  4F206JC10 ,  4F206JL02 ,  4F206JM05 ,  4F206JN25 ,  4F206JQ81
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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