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J-GLOBAL ID：200903033437212091

検査データ解析システム

Inventor： 石川 誠二 ,  坂田 正雄 ,  中里 純 ,  下社 貞夫 ,  長友 宏人 ,  谷口 雄三 ,  佐藤 修 ,  岡部 勉 ,  坂本 雄三郎 ,  村松 公夫 ,  松岡 一彦 ,  橋本 泰造 ,  大山 祐一 ,  江原 裕 ,  宮崎 功 ,  花島 秀一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997208811
Publication number (International publication number)：1998115594
Application date： Jul. 12, 1989
Publication date： May. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明は、処理効率を向上させる電子デバイス検査システムを提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、前記目的を達成するために、電子デバイスとなるワークを検査する第一、第二の検査装置と、該第一の検査装置が検査して得た情報を受信する第一の処理装置と、該第二の検査装置が検査して得た情報を受信する第二の処理装置とを備えた電子デバイス検査システムであって、該第一、第二の検査装置が該ワークを検査して得た情報を該ワークを検査した後で送信するものである。

Claim (excerpt)：

被検査ワーク上の外観不良を検出する異物検査装置もしくは外観検査装置と、該異物検査装置もしくは該異物検査装置の検出した被検査ワークの外観不良に関する検査データから、被検査ワークの外観不良の度数に対する被検査ワーク数の度数を出力するデータ処理装置とを備えたことを特徴とする検査データ解析システム。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66 ,  B65B 57/10

FI (5)：

G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 Z ,  H01L 21/66 J ,  B65B 57/10 D ,  G06F 15/62 405 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-066447
  
• 特開平1-151243