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J-GLOBAL ID：200903033445152871

有機物を含む放射性廃液の処理方法およびその装置

Inventor： 大嶽 敦 ,  船橋 清美 ,  黒川 秀昭 ,  西 高志 ,  泉田 龍男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046789
Publication number (International publication number)：1995260997
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【構成】放射性廃液を処理して清浄な処理水を得る方法および装置で、酸化槽2で酸化処理を行い、有機化合物を酸化分解し水溶性の金属イオンを水に不要な酸化物とし、次に吸着剤添加槽3で吸着剤を添加して微小な金属酸化物結晶および有機物を吸着剤に吸着し、濾過器4で濾過して清浄な処理水を得る。【効果】酸化処理と吸着剤を用いた濾過により、経済的かつ効率的な放射性廃液処理が行える。

Claim (excerpt)：

有機物を含む放射性廃液から、前記有機物および放射性物質を除去して清浄な処理水を得る方法において、前記放射性廃液を酸化処理し、吸着剤を加え、濾過によって水に不溶な成分を除去して清浄な処理水を得ることを特徴とする有機物を含む放射性廃液の処理方法。

IPC (5)：

G21F 9/06 551 ,  G21F 9/06 ZAB ,  G21F 9/06 521 ,  G21F 9/12 ZAB ,  G21F 9/12 501