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J-GLOBAL ID：200903033462526041

ステージ装置、座標測定装置および位置測定方法

Inventor： 大久保 至晴
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 古谷 史旺 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997066787
Publication number (International publication number)：1998260008
Application date： Mar. 19, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、反射鏡の線対称なたわみ以外の成分についても真直度補正を可能にするステージ装置、座標測定装置および位置測定方法を提供することを目的とする。【解決手段】 反射鏡33を有する試料台32をステージ35に載置し、反射鏡33に照射されるレーザ光の干渉を利用してステージ35の位置を測定し、ステージ位置データを取得するステージ装置において、平面度を測定する外部の平面度測定装置に試料台32を載置して取得される反射鏡33の平面度についての第1平面度データを用い、ステージ位置データを補正する補正処理部37を備えることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

反射鏡を有する試料台をステージに載置し、前記反射鏡に照射されるレーザ光の干渉を利用して前記ステージの位置を測定し、ステージ位置データを取得するステージ装置において、平面度を測定する外部の平面度測定装置に前記試料台を載置して取得される前記反射鏡の平面度についての第1平面度データを用い、前記ステージ位置データを補正する補正処理部を備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 ,  G01B 21/00 ,  G12B 5/00

FI (3)：

G01B 11/00 G ,  G01B 21/00 G ,  G12B 5/00 T