ラクトン環含有重合性単量体、高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物、及び半導体の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後藤幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003174690
Publication number (International publication number)：2005008756
Application date： Jun. 19, 2003
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：

【課題】基板密着性に優れ、しかも波長300nm以下の光、特にF2エキシマレーザー(157nm)等の真空紫外光に対して透過性が高い高分子化合物を得る上で有用な新規なラクトン環含有重合性単量体を提供する。【解決手段】ラクトン環含有重合性単量体は、下記式(1)【化1】(式中、環Z1は少なくともラクトン環を有する非芳香族性の単環又は多環を示す。R1、R2、R3は、それぞれ、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフルオロアルキル基を示す。R4はラクトン環の-COO-基のα位の炭素原子に結合している置換基であって、フッ素原子又はフルオロアルキル基を示す。Wは単結合又は連結基を示し、nは0又は1を示す。式中の環は置換基を有していてもよい)で表される化合物(但し、6-トリフルオロメチル-2-ビニルオキシ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-5-オンを除く)である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)

IPC (5)：

C08F220/28 , C07D307/00 , C08F16/24 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (5)：

C08F220/28 , C07D307/00 , C08F16/24 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (18)：

2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 4C037AA02 , 4J100AL08P , 4J100BC53P , 4J100DA36 , 4J100DA62 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ラクトン化合物、ラクトン構造を有する含フッ素アクリレート誘導体及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-167681 Applicant：東ソー株式会社

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