三次元高分子錯体及びそれからなる多孔質水素吸蔵材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：長谷川芳樹 , 塩田辰也 , 寺崎史朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003323522
Publication number (International publication number)：2005093181
Application date： Sep. 16, 2003
Publication date： Apr. 07, 2005
Summary：

【課題】室温近傍における単位重量当たりの水素吸蔵量が十分に高く、十分な量の水素を低温で吸蔵・放出することが可能な多孔質水素吸蔵材料、並びにそのような水素吸蔵材料として有用な三次元高分子錯体の提供。【解決手段】下記一般式(1): R-(COOH)n[式中、Rはテトラジン、トリアジン、キノキサリン、1,5-ナフチリジン、フェナジン、ピリダジン、ピリミジン、フタラジン、キナゾリン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、キノリン、1,9,10-アンチリジン、9a-アザフェナレン、ヘプタアザフェナレン及びペリミジンからなる群から選択される一つの複素環を示し、nは1〜3の整数を示す。]で表される第一の有機配位子と、金属原子と、前記金属原子に配位可能な原子を有する二座配位可能な第二の有機配位子とが三次元的に結合してなることを特徴とする三次元高分子錯体、並びにそれからなる多孔質水素吸蔵材料。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(1): R-(COOH)n [式中、Rはテトラジン、トリアジン、キノキサリン、1,5-ナフチリジン、フェナジン、ピリダジン、ピリミジン、フタラジン、キナゾリン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、キノリン、1,9,10-アンチリジン、9a-アザフェナレン、ヘプタアザフェナレン及びペリミジンからなる群から選択される一つの複素環を示し、nは1〜4の整数を示す。] で表される第一の有機配位子と、金属原子と、前記金属原子に配位可能な原子を有する二座配位可能な第二の有機配位子とが三次元的に結合してなることを特徴とする三次元高分子錯体。

IPC (1)：

H01M8/04

FI (1)：

H01M8/04 J

F-Term (2)：

5H027AA02 , 5H027BA13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-013696 Applicant：大阪瓦斯株式会社

Cited by examiner (2)

ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-013696 Applicant：大阪瓦斯株式会社
新規三次元型有機金属錯体及びガス吸着材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-283051 Applicant：大阪瓦斯株式会社, 森和亮

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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