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J-GLOBAL ID:200903033562338587
新規な光学用樹脂
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
金田 暢之 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999063420
Publication number (International publication number):2000256435
Application date: Mar. 10, 1999
Publication date: Sep. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高屈折率、高アッベ数を維持しながら、耐衝撃性、染色性に優れた重合性組成物を提供する。【解決手段】 1分子内に式(1)【化1】(式中、R1は炭素数1〜10の2価の炭化水素基、R2、R3、R4はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素原子を示す。XはSまたはOを表し、このSの個数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上である。)の構造を1個以上有する化合物(a)と、NCO基又は/及びNCS基を1分子当たり1個以上有する化合物(b)、更に活性水素基を1分子当たり1個以上有する化合物(c)とを含み、上記化合物(a)中のエピスルフィド基及びエポキシ基の総モル数に対する化合物(b)中のNCO基及びNCS基の総モル数の比が0.001〜2、化合物(c)中の活性水素基の総モル数の化合物(b)中のNCO基及びNCS基の総モル数に対する比が0.1〜10である重合性組成物。
Claim (excerpt):
1分子内に下記式(1)【化1】(式中、R1は炭素数1〜10の2価の炭化水素基、R2、R3、R4はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素原子を示す。XはSまたはOを表し、このSの個数は三員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上である。)で示される構造を1個以上有する化合物(a)と、NCO基又は/及びNCS基を1分子当たり1個以上有する化合物(b)、更に活性水素基を1分子当たり1個以上有する化合物(c)とを含んでなり、上記化合物(a)中のエピスルフィド基及びエポキシ基の総計モル数に対する化合物(b)中のNCO基及びNCS基の総計モル数の比が0.001〜2であり、化合物(c)中の活性水素基の総計モル数の化合物(b)中のNCO基及びNCS基の総計モル数に対する比が0.1〜10である重合性組成物。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (52):
4J034BA08
, 4J034CA02
, 4J034CA04
, 4J034CA05
, 4J034CA13
, 4J034CA15
, 4J034CA32
, 4J034CB02
, 4J034CB08
, 4J034CC03
, 4J034CC10
, 4J034CC33
, 4J034CC38
, 4J034CC42
, 4J034CC45
, 4J034CC61
, 4J034CC62
, 4J034CD08
, 4J034DA06
, 4J034DA08
, 4J034DC15
, 4J034DC25
, 4J034DC27
, 4J034DC32
, 4J034DD03
, 4J034DK08
, 4J034DR06
, 4J034HA01
, 4J034HA02
, 4J034HA04
, 4J034HA07
, 4J034HB02
, 4J034HB03
, 4J034HC03
, 4J034HC07
, 4J034HC12
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC23
, 4J034HC46
, 4J034HC47
, 4J034HC52
, 4J034HC71
, 4J034KC16
, 4J034KC17
, 4J034KD12
, 4J034KD17
, 4J034KD24
, 4J034QA03
, 4J034QC08
, 4J034QD03
, 4J034RA13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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エピスルフィド化合物およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-167766
Applicant:住友精化株式会社
-
光学材料用組成物並びにプラスチックレンズおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-261427
Applicant:住友精化株式会社
-
樹脂用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-031890
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
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