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J-GLOBAL ID:200903033573557620

配線の断線修正方法およびそれを用いた配線基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 秋本 正実
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993169243
Publication number (International publication number):1995029982
Application date: Jul. 08, 1993
Publication date: Jan. 31, 1995
Summary:
【要約】【目的】 配線基板上における断線部の修正を、該断線部を有しない正常な配線と差のない状態に、簡便、かつ確実に修正することができる配線の断線修正方法およびそれを用いた配線基板の提供。【構成】 金属錯体を含む溶液または塗膜に接する配線断線部に、レーザ光を照射し、該レーザ光の照射位置にのみ局所的に金属薄膜を析出させて前記配線断線部の修正を行う方法において、上記の溶液または塗膜が、パラジウム,金,銀,白金の何れか一種類以上の金属を含む錯体の溶液または塗膜からなる配線の断線修正方法および該断線修正方法を用いた配線基板。
Claim (excerpt):
金属錯体を含む溶液または塗膜に接する配線断線部に、レーザ光を照射し、該レーザ光の照射位置にのみ局所的に金属薄膜を析出させて前記配線断線部の修正を行う方法において、上記の溶液または塗膜が、パラジウム,金,銀,白金の何れか一種類以上の金属を含む錯体の溶液または塗膜であることを特徴とする配線の断線修正方法。
IPC (2):
H01L 21/82 ,  H01S 3/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-074885
  • 特開昭59-177358

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