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J-GLOBAL ID：200903033581592567

ガス浄化装置

Inventor：
田中 元史

About 田中 元史

, 
安井 祐之

About 安井 祐之

, 
石井 彰

About 石井 彰

, 
荒木 邦行

About 荒木 邦行


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (4)： 波多野 久 ,  関口 俊三 ,  猿渡 章雄 ,  古川 潤一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004138831
Publication number (International publication number)：2005320895
Application date： May. 07, 2004
Publication date： Nov. 17, 2005
Summary：
【課題】浄化対象ガスのガス流路をより広く確保し、より大容量の浄化対象ガスから有害物質を加熱することなく低温でより効率的に除去して浄化対象ガスを浄化することが可能なガス浄化装置である。【解決手段】ガス浄化装置1は、浄化対象ガスXが流れるガス流路10に放電用の電界を形成して放電プラズマYを生成し、前記浄化対象ガスXに含まれる粒子状物質PMを前記放電プラズマYの作用により荷電するとともに燃焼処理させる第1の電界形成手段3a,4、7、8と、電気的集塵機能により前記荷電された粒子状物質を捕捉するとともに前記放電プラズマYを前記ガス流路10側に引出すための集塵用の電界を形成する第2の電界形成手段3b,5、7、9とを有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
浄化対象ガスが流れるガス流路に放電用の電界を形成して放電プラズマを生成し、前記浄化対象ガスに含まれる粒子状物質を前記放電プラズマの作用により荷電するとともに燃焼処理させる第1の電界形成手段と、電気的集塵機能により前記荷電された粒子状物質を捕捉するとともに前記放電プラズマを前記ガス流路側に引出すための集塵用の電界を形成する第2の電界形成手段とを有することを特徴とするガス浄化装置。
IPC (10)：
F01N3/02 ,  B03C3/02 ,  B03C3/38 ,  B03C3/40 ,  B03C3/60 ,  B03C3/66 ,  B03C3/74 ,  F01N3/08 ,  F01N3/24 ,  F01N9/00
FI (12)：
F01N3/02 301F ,  F01N3/02 321B ,  B03C3/02 A ,  B03C3/38 ,  B03C3/40 A ,  B03C3/60 ,  B03C3/66 ,  B03C3/74 E ,  B03C3/74 Z ,  F01N3/08 C ,  F01N3/24 E ,  F01N9/00 Z
F-Term (40)：
3G090AA02 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090DA09 ,  3G090DA11 ,  3G090EA02 ,  3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AA28 ,  3G091AB02 ,  3G091AB13 ,  3G091AB14 ,  3G091BA00 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA38 ,  3G091BA39 ,  3G091CB08 ,  3G091DB10 ,  3G091EA17 ,  3G091GA06 ,  3G091HA07 ,  3G091HA15 ,  3G091HA35 ,  3G091HA47 ,  4D054AA03 ,  4D054BA01 ,  4D054BA06 ,  4D054BA18 ,  4D054BB01 ,  4D054BB08 ,  4D054BB11 ,  4D054BC22 ,  4D054CA01 ,  4D054CA06 ,  4D054CB09 ,  4D054DA11 ,  4D054DA15 ,  4D054DA20 ,  4D054EA30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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