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J-GLOBAL ID：200903033588358756

高分子材料成形体の表面処理方法

Inventor： 五十嵐 龍志 ,  松野 博光 ,  平本 立躬
Applicant, Patent owner： ウシオ電機株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993146691
Publication number (International publication number)：1994336530
Application date： May. 27, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 種々の低活性高分子材料成形体の表面にも適用出来、その表面を親水性に変える方法を提供することである。【構成】 被照射物を、放射光の波長の最大値が180nm以下の放射帯域にある誘電体バリヤ放電ランプで照射する。

Claim (excerpt)：

放射光の波長の最大値が180nm以下の波長帯域にある誘電体バリヤ放電ランプから放射される紫外線を高分子材料成形体に照射して、高分子材料成形体の表面を親水性に変えるかもしくはその親水性を増大せしめることを特徴とする表面処理方法。

IPC (6)：

C08J 7/00 303 ,  C08J 7/00 CES ,  C08J 7/00 CEW ,  B01J 19/12 ,  C08L 23:02 ,  C08L 27:18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-128947
  
• 特開平3-269024
  
• 特開平4-318037