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J-GLOBAL ID：200903033637828283

ハードマスク層用の反射防止SiO含有組成物

Inventor： ペイファー、ダーク ,  アンジェロポロス、マリー ,  バビチ、キャサリーナ ,  ブロック、フィリップ ,  ファン、ウーソン ,  マホロワラ、アーパン、ピー ,  メディーロス、デヴィッド、アール ,  ソーリヤクマラン、ラットナム
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
Agent (3)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003586669
Publication number (International publication number)：2005523474
Application date： Apr. 01, 2003
Publication date： Aug. 04, 2005
Summary：

【課題】リソグラフィ・プロセスにおいて有用な、新規の反射防止ハードマスク組成物を提供すること。【解決手段】発色団部分および透明部分を有するSiO含有ポリマーの存在を特徴とする反射防止組成物は、リソグラフィ・プロセスにおいて有用な反射防止ハードマスク組成物である。これらの組成物は、優れた光学特性、機械特性およびエッチング選択性を提供するとともに、スピンオン塗布技術を用いて塗布することができる。本発明の組成物は、好都合なことに、より短波長のリソグラフィ・プロセスで有用であるか、または残存酸含有量が極めて少ない、あるいはその両方を兼ね備えている。

Claim (excerpt)：

スピンオン反射防止ハードマスク層の形成に適切な組成物であって、 (a)発色団部分および透明部分を有するSiO含有ポリマーと、 (b)別個の架橋成分と、 (c)酸発生剤と を含む組成物。

IPC (5)：

G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (5)：

G03F7/11 503 ,  G03F7/004 507 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 574

F-Term (9)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025CC14 ,  2H025DA34 ,  2H025FA41 ,  5F046PA07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (16)

• 米国特許第4,371,605号
  
• 米国特許第5,562,801号
  
• 米国特許第5,618,751号
  
• 米国特許第5,744,376号
  
• 米国特許第5,801,094号
  
• 米国特許第5,821,469号
  
• 米国特許第5,948,570号
  
• 2000年12月21日出願の米国特許出願第09/748071号(SubstantiallyTransparent Aqueous Base Soluble Polymer System For Use In 157 nm ResistApplications)
  
• 特開平1-293339
  
• カナダ特許第1204547号
  
• 米国特許第5,886,102号
  
• 米国特許第5,939,236号
  
• 米国特許第6,037,097号
  
• 米国特許第4,855,017号
  
• 米国特許第5,362,663号
  
• 米国特許第5,429,710号
  

Cited by examiner (1)

• 反射防止ハードマスク組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-174636   Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー