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J-GLOBAL ID：200903033718316627

マスク清浄方法及びそれを用いるデバイス製造方法と電子ビーム露光装置

Inventor： 河田 真太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 渡部 温
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000068034
Publication number (International publication number)：2001257150
Application date： Mar. 13, 2000
Publication date： Sep. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 電子ビーム露光装置に取り付けられたマスクをクリーニングするためにスループットが大幅に低下することのないマスク清浄方法等を提供する。【解決手段】 基板9上の所定の領域に塗布されたレジストにマスク4上のパターンを投影露光するための電子ビーム露光装置におけるマスク清浄方法であって、(a)所望のパターンが形成されたマスク4を電子ビーム露光装置内に設置する工程と、(b)電子ビーム露光装置内を減圧する工程と、(c)電子ビーム3をマスク4に向けて照射し、マスク4を通過した電子ビームを偏向させてレジストが塗布された領域以外に逃がす工程とを具備する。

Claim (excerpt)：

基板上の所定の領域に塗布されたレジストにマスク上のパターンを投影露光するための電子ビーム露光装置におけるマスク清浄方法であって、(a)所望のパターンが形成されたマスクを電子ビーム露光装置内に設置する工程と、(b)前記電子ビーム露光装置内を減圧する工程と、(c)電子ビームを前記マスクに向けて照射し、前記マスクを通過した電子ビームを偏向させて前記レジストが塗布された領域以外に逃がす工程と、を具備することを特徴とするマスク清浄方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 504

FI (3)：

G03F 1/08 X ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 S

F-Term (12)：

2H095BA08 ,  2H095BB20 ,  2H097AA03 ,  2H097BA02 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F056AA22 ,  5F056AA27 ,  5F056BA09 ,  5F056BB03 ,  5F056FA03 ,  5F056FA10