Pat
J-GLOBAL ID：200903033740208439
レーザープラズマ極紫外放射線源
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 橋本 正男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003148899
Publication number (International publication number)：2004031342
Application date： May. 27, 2003
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：
【課題】後続の標的小滴が先行の標的小滴のイオン化により影響を受けないようにしたレーザープラズマEUV放射線源を提供する。【解決手段】EUV放射線源の源ノズル(50)は圧電トランスジューサ(58)により発生されるような標的材料の自然レイリー不安定破壊周波数により設定される率で小滴(54)を放出できる所定の寸法のオリフィス(56)を有する。小滴発生率は、バッファ小滴(70)が標的小滴(66、72)間に送給されるように、励振レーザー(14)のパルス周波数に関連してこれらの因子により決定される。バッファ小滴は、次の標的小滴(72)が影響を受けないように、イオン化された標的小滴(66)から発生する放射線を吸収するように作用する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
レーザープラズマ極紫外放射線源において、
供給源端部と、所定の直径を有するオリフィスを含む出口端部とを備え、上記オリフィスから標的材料の小滴のストリームを放出するノズルと;
脈動する励振信号を上記ノズルに提供する標的材料励振源と;
脈動するレーザービームを提供するレーザー源と;
を有し、脈動する上記励振源のタイミング、上記オリフィスの直径及び脈動する上記レーザー源のタイミングは、上記ノズルの上記オリフィスから放出される小滴が所定の速度及び小滴間間隔を有するように及び小滴ストリーム内の標的小滴がレーザービームのパルスによりイオン化されるように、互いに関して設計され、所定数のバッファ小滴が脈動するレーザービームにより直接イオン化されないよう標的小滴間に提供され、バッファ小滴は、後続の標的小滴が先行の標的小滴のイオン化により影響されないように、イオン化された標的小滴から放射されたプラズマエネルギを吸収することを特徴とする放射線源。
IPC (7)：
H05G2/00
, G21K5/00
, G21K5/02
, G21K5/08
, H01L21/027
, H05G1/00
, H05H1/24
H05G1/00 K
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
, G21K5/08 Z
, H05H1/24
, H01L21/30 515A
, H01L21/30 531S
, H05G1/00 R
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB19
, 4C092AB30
, 4C092AC09
, 5F046CA10
, 5F046GC03
