垂直磁化膜およびその製造法ならびに光磁気記録媒体

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996160407
Publication number (International publication number)：1997306736
Application date： May. 17, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】合金垂直磁化膜および製造法ならびに光磁気記録媒体を提供する。【解決手段】100Å以下の厚さの単体金属あるいは合金からなるシード層を成膜し、次いで100〜1000°Cの基板温度で5μm以下(0を含まず)の厚さの面心立方金属からなるバッファ層を成膜し、次いで基板温度400〜700°Cで該バッファ層上に一般式(FeaCo1-a)100-x-yPtxMyで表わされ、副成分MはBe、B、C、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Ni、Mn、Cu、Ge、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Sb、希土類元素、Hf、Ta、W、Re、OS、Ir、Au、Biのうちから選択される1種または2種以上の元素であり、その組成比aと原子比率x、yは0≦a≦1.045≦x≦750≦y≦15である組成と少量の不純物からなる500Å以下(0を含まず)の厚さの層を積層してなる。

Claim (excerpt)：

単結晶基板上に、5μm以下(0を含まず)の厚さの面心立方金属からなるバッファ層と、該バッファ層上に一般式(FeaCo1-a)100-xPtxで表わされ、組成比aと原子比率xは0≦a≦1.045≦x≦75である組成と少量の不純物からなる500Å以下(0を含まず)の厚さの合金層を積層してなり、極磁気カー回転角が最大0.3 ゚以上であり、保磁力が1000Oe以上を有することを特徴とする角型性に優れた垂直磁化膜。

IPC (6)：

H01F 10/16 , C22C 38/00 303 , G11B 11/10 501 , G11B 11/10 506 , G11B 11/10 541 , H01F 41/18

FI (6)：

H01F 10/16 , C22C 38/00 303 A , G11B 11/10 501 Z , G11B 11/10 506 B , G11B 11/10 541 B , H01F 41/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

磁気記録膜、磁気記録媒体、および光磁気記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-167551 Applicant：帝人株式会社
磁気記録膜、磁気記録媒体、および光磁気記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-258233 Applicant：帝人株式会社
特開平2-074013

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垂直磁化膜およびその製造法ならびに 光磁気記録媒体

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