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J-GLOBAL ID：200903033790316615

処理装置内の被処理体の搬送方法

Inventor： 佐伯 弘明 ,  浅川 輝雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994021932
Publication number (International publication number)：1995211761
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 クロスコンタミネーションを抑制することができる処理装置内の被処理体の搬送方法を提供する。【構成】 被処理体Wを処理する複数の処理室2A、2B、2Cと、これらに接続された共通搬送室6と、外部との間で被処理体を搬出入させるロードロック室8A、8Bを有する処理装置にて被処理体を搬送する方法において、共通搬送室と他の室とを連通する直前に、この共通搬送室に連通すべき室内の圧力を共通搬送室内の圧力と同一か或いはこれよりも僅かに低い状態にしておき、連通時に共通搬送室から連通された室に向かう気体の緩やかな流れを積極的に形成する。これにより、搬送室内に残留処理ガス等が侵入することを阻止し、クロスコンタミネーション等が発生することを防止する。

Claim (excerpt)：

被処理体を処理する複数の処理室と、これらの処理室に連通可能に接続された共通搬送室と、この共通搬送室に連通可能に接続されて外部との間で前記被処理体を搬出入させるロードロック室を有する処理装置内にて前記被処理体を搬送する方法において、前記共通搬送室を介して前記処理空間或いは前記処理室と前記ロードロック室との間に前記被処理体を搬送すべく前記共通搬送室と前記処理室或いは前記ロードロック室とを連通する際に、前記処理室或いは前記ロードロック室内の圧力を前記共通搬送室の圧力と同一か或いはそれよりも僅かに低く設定するようにしたことを特徴とする処理装置内の被処理体の搬送方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 縦型CVD・拡散装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-207429   Applicant：国際電気株式会社
• 半導体処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-083260   Applicant：九州日本電気株式会社