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J-GLOBAL ID:200903033810830531

ポリマーストライプ形導波路の製造方法及び導波路層のパターン化方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宇井 正一 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993101880
Publication number (International publication number):1994118258
Application date: Apr. 06, 1993
Publication date: Apr. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 分極ポリマーストライプ形導波路の製造方法を提供する。【構成】 該方法は、ポリマー導波路ブランクを製作する工程と、そのポリマー導波路ブランクを電場ポーリングする工程と、そして導波路ブランク内のストライプ形導波路の輪郭を光融蝕する工程とを含んで成る。本発明は、受動ポリマーストライプ形導波路の製造方法、並びに本発明の方法によって製作される非線形光学及び受動導波路も提供する。
Claim (excerpt):
プレーナー形ポリマー導波路ブランクを製作する工程、及び前記導波路ブランク内のストライプ形導波路の輪郭を光融蝕する工程、を含んで成るポリマーストライプ形導波路の製造方法。

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