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J-GLOBAL ID：200903033820300735

水処理システム

Inventor： 村上 治
Applicant, Patent owner： 村上 治 ,  村上 幸男
Agent (1)： 安形 雄三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995170437
Publication number (International publication number)：1997001131
Application date： Jun. 14, 1995
Publication date： Jan. 07, 1997
Summary：

【要約】【目的】 広範囲な種類の水に対して汎用的に適用でき、多様な汚染物質に対して安定した処理能力を維持させ、システムは極めてシンプルであり、しかもランニングコストが廉価で済む水処理システムを提供する。【構成】 イオン交換剤・吸着剤、凝集剤、酸化剤、中和剤、還元剤の少なくとも1つを所定の比率で原水に添加して撹拌する撹拌水槽、及び前記撹拌水槽からの撹拌水を受け入れてイオン交換反応及び凝集・沈殿作用により汚染物質をスラッジとして底部に溜める凝集・沈殿槽から成る水処理槽とその後段に乾燥或いは焼成加工し精製したゼオライトを充填させて、原水に接触反応させる接触反応槽を接続して水処理させることを特徴とする水処理システム。

Claim (excerpt)：

イオン交換剤・吸着剤、凝集剤、酸化剤、中和剤、還元剤の少なくとも1つを所定の比率で原水に添加して撹拌する撹拌水槽、及び前記撹拌水槽からの撹拌水を受け入れてイオン交換反応及び凝集・沈殿作用により汚染物質をスラッジとして底部に溜める凝集・沈殿槽から成る水処理槽を1もしくは複数設け、時系列的に処理させることを特徴とする水処理システム。

IPC (13)：

C02F 1/28 ,  B01D 21/02 ,  B01D 21/08 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

FI (18)：

C02F 1/28 A ,  C02F 1/28 E ,  B01D 21/02 E ,  B01D 21/08 A ,  C02F 1/42 C ,  C02F 1/52 Z ,  C02F 1/66 510 K ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 P ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 Z ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E