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J-GLOBAL ID：200903033843338721

高分子合成方法

Inventor： 関 建司 ,  藤原 正隆 ,  蒲池 幹治 ,  森 和亮 ,  梶原 篤
Applicant, Patent owner： 大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 北村 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995024266
Publication number (International publication number)：1996217811
Application date： Feb. 13, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 比較的分子量分布を狭く抑えることができるとともに、重合速度も速く、立体規則性の高いポリマーを得ることができる高分子合成方法を得る。【構成】 一次元のチャネル構造を有する有機金属錯体に、モノマーを吸着させ、吸着された前記モノマーに放射線を照射して、ポリマーを得る。

Claim (excerpt)：

一次元のチャネル構造を有する有機金属錯体に、モノマーを吸着させ、吸着された前記モノマーに放射線を照射して、ポリマーを得る高分子合成方法。

IPC (4)：

C08F 2/46 MDT ,  C08F 2/44 MCR ,  C08F 4/42 MEZ ,  C08F 4/42 MFC

FI (4)：

C08F 2/46 MDT ,  C08F 2/44 MCR ,  C08F 4/42 MEZ ,  C08F 4/42 MFC