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J-GLOBAL ID：200903033854054849

劈開性非晶質シリカ粒子及びその製法

Inventor： 高橋 範行 ,  鷲尾 雄二 ,  亀山 東剛
Applicant, Patent owner： 水澤化学工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 郁男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996134154
Publication number (International publication number)：1997295808
Application date： May. 02, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 極めて大きな劈開性を有し、顔料及び充填剤等として有用な劈開性非晶質シリカ粒子及びその製法を提供するにある。【解決手段】 非晶質シリカ薄層の劈開性積層体粒子から成り且つ式(1)式中、d1 は前記積層体粒子の厚みであり、d2 はこの積層体粒子を構成する非晶質シリカ薄層の厚みである、で定義される劈開性(C)が2以上であることを特徴とする劈開性非晶質シリカ粒子。

Claim (excerpt)：

非晶質シリカ薄層の劈開性積層体粒子から成り且つ式(1)式中、d1 は前記積層体粒子の厚みであり、d2 はこの積層体粒子を構成する非晶質シリカ薄層の厚みである、で定義される劈開性(C)が2以上であることを特徴とする劈開性非晶質シリカ粒子。

IPC (3)：

C01B 33/18 ,  C08K 3/36 KAH ,  C08L101/00

FI (3)：

C01B 33/18 E ,  C08K 3/36 KAH ,  C08L101/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭62-036015
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭62-036015