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J-GLOBAL ID:200903033874143848
透明導電性薄膜の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999083967
Publication number (International publication number):2000273618
Application date: Mar. 26, 1999
Publication date: Oct. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】液晶パネルの透明電極等として広く用いられている比抵抗の低い非晶質の透明導電性酸化物薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】フッ化インジウムおよび酸化インジウムを含有するターゲットとして用いて、スパッタリング法により、基板上に非晶質の透明導電性酸化物を形成する透明導電性薄膜の製造方法。
Claim (excerpt):
フッ化インジウムおよび酸化インジウムを含有するターゲットを用いて、スパッタリング法により、基板上に非晶質の透明導電性酸化物薄膜を形成する透明導電性薄膜の製造方法。
IPC (4):
C23C 14/08
, C23C 14/34
, G09F 9/30 335
, C03C 17/245
FI (4):
C23C 14/08 D
, C23C 14/34 A
, G09F 9/30 335
, C03C 17/245 A
F-Term (18):
4G059AA11
, 4G059AC12
, 4G059EA03
, 4G059EA18
, 4G059EB04
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA45
, 4K029BB10
, 4K029BC09
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 5C094AA21
, 5C094BA27
, 5C094BA43
, 5C094EA05
, 5C094GB01
, 5C094JA01
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