微細パターン形成補助剤及びその製造法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：鐘尾宏紀 , 野口武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003090376
Publication number (International publication number)：2004294992
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：

【課題】ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤、この補助剤に用いられる原料ポリマー及びその製造法を提供する。【解決手段】アセタール化ポリビニルアルコール(PVA)などの水溶性変性PVAをイオン交換処理により、脱金属イオン、脱酸を行った後、80°C以上の加熱処理を行う。これにより変性PVA中の25万以上の重量平均分子量を有する高分子量体成分量が低減される。加熱処理後の変性PVAと架橋剤を含む微細パターン形成補助剤を、レジストパターン3上に塗布して被覆層4を形成した後、レジストパターン3及び被覆層4を加熱することにより、レジストパターン3から被覆層に酸が拡散される。拡散された酸により、レジストパターン表面近傍の被覆層が架橋、硬化される。被覆層4現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層5を有し、露光波長の限界解像以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

保護基で保護された変性ポリビニルアルコール、水溶性架橋剤、及び水又は水と水溶性有機溶剤との混合溶媒を含有する微細パターン形成補助剤において、前記保護基で保護された変性ポリビニルアルコールの、ゲル透過クロマトグラフィー法により求めてポリエチレングリコール標準物質より計算した重量平均分子量が25万以上の高分子量体成分量が、当該変性ポリビニルアルコール中1000ppm以下であることを特徴とする微細パターン形成補助剤。

IPC (2)：

G03F7/40 , H01L21/027

FI (2)：

G03F7/40 511 , H01L21/30 575

F-Term (9)：

2H096AA25 , 2H096EA02 , 2H096EA05 , 2H096EA06 , 2H096EA07 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096HA05 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平3-200805
特開昭51-125154
特開昭51-125155

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