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J-GLOBAL ID：200903033883528361

レーザ光照射装置

Inventor：
浜田 史郎

About 浜田 史郎

, 
山本 次郎

About 山本 次郎


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (2)： 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003347817
Publication number (International publication number)：2005111509
Application date： Oct. 07, 2003
Publication date： Apr. 28, 2005
Summary：
【課題】 液晶マスク等の状態可変型のマスク手段を用いたパターニング加工等の加工品質を向上させる。【解決手段】 光源部1と液晶マスク7との間の光路上に、スイッチ部5を設ける。スイッチ部5は、光源部1から放射されたレーザ光が液晶マスク7に入射するのを阻止する阻止状態および液晶マスク7に入射するのを許容する許容状態のいずれかの状態を選択的にとることができる。コントローラ11は、液晶マスク7を構成する少なくとも一つの液晶セルの状態が、透過状態から遮光状態へ、または遮光状態から透過状態へ推移する際の過渡期間の間、スイッチ部5の状態を阻止状態に保つ制御を行う。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
それぞれ自己に入射したレーザ光が被照射物の表面へ到達するのを許容する第1の状態および被照射物の表面へ到達するのを阻止する第2の状態のいずれかの状態を選択的にとることができる複数のシャッタ部が配列されて構成され、外部から与えられる制御信号に従って、前記複数のシャッタ部のうち少なくとも一つを、前記第1の状態から前記第2の状態へ、または前記第2の状態から前記第1の状態へ推移させるマスク手段と、 前記マスク手段を構成する複数のシャッタ部へ入射するレーザ光を出射するレーザ光出射手段と、 前記第1の状態とされた前記シャッタ部に入射し、該シャッタ部によって前記被照射物の表面へ到達することが許容されたレーザ光の、該被照射物の表面上における照射位置を、該被照射物の表面上で移動させる照射位置移動手段と、 前記複数のシャッタ部のうち少なくとも一つのシャッタ部の状態が、前記第1の状態から前記第2の状態へ、または前記第2の状態から前記第1の状態へ推移する際の過渡期間の間、前記レーザ光出射手段からの前記複数のシャッタ部へのレーザ光の出射が阻止されるように該レーザ光出射手段を制御する制御手段と を備えたレーザ光照射装置。
IPC (2)：
B23K26/06 ,  G02F1/13
FI (2)：
B23K26/06 J ,  G02F1/13 505
F-Term (8)：
2H088EA22 ,  2H088EA40 ,  2H088HA20 ,  2H088MA20 ,  4E068CB08 ,  4E068CB10 ,  4E068CD10 ,  4E068CE03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (6)
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