Pat

J-GLOBAL ID：200903033901560308

排ガス処理装置および処理方法

Inventor： 草柳 青葉 ,  加藤 直巳 ,  橋口 功
Applicant, Patent owner： 東芝プラントシステム株式会社
Agent (1)： 窪田 卓美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003068268
Publication number (International publication number)：2004275831
Application date： Mar. 13, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：

【課題】排ガスに比較的高濃度に含まれている酸性やアルカリ性の無機ガス不純物を効率よく環境基準に適合するレベルまで除去する排ガス処理装置および処理方法の提供。【構成】排ガスに含まれている不純物を除去する排ガス処理装置において、排ガス処理系統1の前段に排ガスに含まれている不純物を溶液吸収により除去する湿式スクラバー2を設け、該湿式スクラバー2の後段に排ガスに残留する不純物をイオン交換フィルタ17(22)により除去するドライガススクラバー3を設けたことを特徴とする。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

排ガスに含まれている不純物を除去する排ガス処理装置において、排ガス処理系統1の前段に排ガスに含まれている不純物を溶液吸収により除去する湿式スクラバー2を設け、該湿式スクラバー2の後段に排ガスに残留する不純物をイオン交換フィルタ17(22)により除去するドライガススクラバー3を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。

IPC (4)：

B01D53/68 ,  B01D53/34 ,  B01D53/42 ,  B01D53/77

FI (4)：

B01D53/34 134A ,  B01D53/34 ,  B01D53/34 134B ,  B01D53/34 119

F-Term (12)：

4D002AA40 ,  4D002AB01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA04 ,  4D002CA01 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002DA70 ,  4D002EA02 ,  4D002EA07 ,  4D002HA03