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J-GLOBAL ID:200903033945986906

循環流動層反応装置の操業方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小堀 益
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993099808
Publication number (International publication number):1994306433
Application date: Apr. 26, 1993
Publication date: Nov. 01, 1994
Summary:
【要約】【目的】 流動層反応装置の外部の粒子循環系のダウンカマにおける充填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測定し管理できる手段の提供。【構成】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成するライザーと、同ライザーの外側においてライザー頂部から排出される粒鉱石を捕集してダウンカマを介してライザーに循環する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、循環している粒子と温度の異なるトレーサ粒子をパルス的に供給し、ダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマの移動層における粒子レベルを検知し制御する。また、この粒子レベルの検知は、粒子循環量に対応したダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出することによってその検知精度を上げることができる。
Claim (excerpt):
底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成する流動層形成部と、同流動層形成部の外側において流動層形成部の頂部から排出される粒鉱石を捕集して粒子下降管を介して流動層形成部に循環供給する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、粒子下降管に充填された粒子の移動層の温度変化を検出し、同移動層における粒子レベルを検知し制御する循環流動層反応装置の操業方法。
IPC (2):
C21B 11/00 ,  C21B 13/00 101

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