親水性で高膨潤性のヒドロゲル、その製造および使用

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢野敏雄 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000575920
Publication number (International publication number)：2002527548
Application date： Oct. 01, 1999
Publication date： Aug. 27, 2002
Summary：

【要約】(共)重合モノマーをベースとするかまたはグラフト(コ)ポリマーをベースとし、a)1種以上の親水性モノマーをラジカル(共)重合させるか、または1種以上の親水性モノマーをグラフトベース上にグラフト(共)重合させ、その際、酸基含有モノマーの平均中和度が0〜40mol%であり、b)酸性ヒドロゲルを破砕し、c)酸性ヒドロゲルの中和を中和剤の添加により、最終中和度50〜85mol%までにし、d)該ヒドロゲル粒子を乾燥、粉砕および篩分けすることにより製造される親水性で高膨潤性のヒドロゲルにおいて、- 0.9%NaCl水溶液に関して少なくとも29g/gの遠心保持率を有し、かつ- 垂直吸収(1g)の際に少なくとも3.5cmの膨潤高さが5%未満の抽出物含量(16時間-値)を有するか、または- 0.9%NaCl水溶液に関して少なくとも23g/gの遠心保持率を有し、かつ- 垂直吸収(3g)の際に膨潤高さが少なくとも5cmであり- 4%未満の抽出物含量(16時間-値)を有することを特徴とする、親水性で高膨潤性のヒドロゲル。

Claim (excerpt)：

(共)重合モノマーをベースとするかまたはグラフト(コ)ポリマーをベースとし、a)1種以上の親水性モノマーをラジカル(共)重合させるか、または1種以上の親水性モノマーをグラフトベース上にグラフト(共)重合させ、その際、酸基含有モノマーの平均中和度が0〜40mol%であり、b)酸性ヒドロゲルを破砕し、c)酸性ヒドロゲルの中和を中和剤の添加により、最終中和度50〜85mol%までにし、d)該ヒドロゲル粒子を乾燥、粉砕および篩分けすることにより製造される親水性で高膨潤性のヒドロゲルにおいて、- 0.9%NaCl水溶液に関して少なくとも29g/gの遠心保持率を有し、かつ- 垂直吸収(1g)の際に少なくとも3.5cmの膨潤高さが5%未満の抽出物含量(16時間-値)を有するか、または- 0.9%NaCl水溶液に関して少なくとも23g/gの遠心保持率を有し、かつ- 垂直吸収(3g)の際に膨潤高さが少なくとも5cmであり- 4%未満の抽出物含量(16時間-値)を有することを特徴とする、親水性で高膨潤性のヒドロゲル。

IPC (13)：

C08F 20/02 , A61F 13/53 , A61L 15/60 , B01J 20/26 , C08F 2/10 , C08F 6/02 , C08F 6/26 , C08F 8/00 , C08F 8/42 , C08F 22/00 , C08F 28/02 , C08F 30/02 , C08F291/00

FI (13)：

C08F 20/02 , B01J 20/26 H , C08F 2/10 , C08F 6/02 , C08F 6/26 , C08F 8/00 , C08F 8/42 , C08F 22/00 , C08F 28/02 , C08F 30/02 , C08F291/00 , A61F 13/18 307 A , A61F 13/20 322

F-Term (90)：

4C003AA22 , 4C003GA01 , 4G066AC01C , 4G066AC02C , 4G066AC12C , 4G066AC23C , 4G066AC35C , 4G066AD01B , 4G066AD06B , 4G066AD15B , 4G066AD20B , 4G066AE05B , 4G066AE06B , 4G066BA38 , 4G066CA20 , 4G066CA43 , 4G066DA11 , 4G066EA05 , 4G066FA07 , 4G066FA21 , 4G066FA40 , 4J011HA02 , 4J011HB16 , 4J026AA02 , 4J026AA03 , 4J026AA30 , 4J026AB07 , 4J026AB20 , 4J026AB21 , 4J026AC35 , 4J026BA06 , 4J026BA25 , 4J026BA32 , 4J026BA34 , 4J026BA35 , 4J026BA36 , 4J026BA38 , 4J026BA39 , 4J026BA50 , 4J026DB02 , 4J026DB08 , 4J026DB12 , 4J026DB14 , 4J026DB15 , 4J026DB16 , 4J026EA03 , 4J026EA08 , 4J026EA10 , 4J026GA02 , 4J100AB07P , 4J100AJ02P , 4J100AJ08P , 4J100AJ09P , 4J100AK32P , 4J100AL08P , 4J100AL09P , 4J100AL41P , 4J100AM21P , 4J100AN04P , 4J100AN14P , 4J100AP01P , 4J100AP07P , 4J100BA03P , 4J100BA14P , 4J100BA30P , 4J100BA56Q , 4J100BA67P , 4J100CA01 , 4J100FA17 , 4J100FA19 , 4J100GC25 , 4J100GC32 , 4J100HA31 , 4J100HA53 , 4J100HB29 , 4J100HB37 , 4J100HB39 , 4J100HB43 , 4J100HB44 , 4J100HB52 , 4J100HC08 , 4J100HC10 , 4J100HC33 , 4J100HC39 , 4J100HC43 , 4J100HC51 , 4J100HC63 , 4J100HC64 , 4J100HC78 , 4J100JA60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開昭62-054751
特開昭62-054751

Return to Previous Page