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J-GLOBAL ID：200903033956453578

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

Inventor： 阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001250484
Publication number (International publication number)：2003057822
Application date： Aug. 21, 2001
Publication date： Feb. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】 高感度を有し、ラフネスが改善され、PBD安定性及びマーク検出適正に優れた電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂、及び(c)酸による架橋する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、(a)成分がカチオン部に非イオン性のBr、I、SeまたはTeを有するオニウム塩化合物、又は、ベンゼン環上に、非イオン性のBr、I、Se又はTe、または非イオン性のBr、I、Se又はTeを含有する置換基を有するN-ヒドロキシイミドのスルホン酸エステルであることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

少なくとも(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂、及び(c)酸により架橋する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物において、(a)成分がカチオン部に非イオン性のBr、I、SeまたはTeを含有するオニウム塩化合物であることを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (13)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB17 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17