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J-GLOBAL ID：200903033986376926

低レベルα線ガラスおよびその製造方法

Inventor： 妹尾 龍也 ,  八田比佐雄
Applicant, Patent owner： 株式会社オハラ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993164105
Publication number (International publication number)：1994345480
Application date： Jun. 08, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、固体撮像素子等に用いられるカバーガラスに適したα線放出の少ない、低レベルα線ガラスおよびその製造方法を提供することにある。【構成】 重量百分率で、SiO2 50〜75%、B2O3 5〜25%、Al2O3 0〜3.5%、K2O 1〜25%、Na2O 0〜20%、Li2O 0〜5%、ただし、K2O+Na2O+Li2O 7〜25%、As2O3+Sb2O30〜1%、MgO、CaO、SrO、BaO、TiO2、PbO、ZnOをそれぞれ、0〜5%、および上記各金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物の弗素(F)として0.5〜10%含有するガラス調合物を、1250〜1500°Cの温度で溶融することで得られ、かつ、該ガラスのα線量が0.02(count/cm2・hr)以下である。

Claim (excerpt)：

重量百分率で、SiO2 50〜75%、B2O3 5〜25%、Al2O3 0〜3.5%、K2O 1〜25%、Na2O 0〜20%、Li2O 0〜5%、ただし、K2O+Na2O+Li2O 7〜25%、As2O3+Sb2O3 0〜1%、MgO、CaO、SrO、BaO、TiO2、PbO、ZnOをそれぞれ0〜5%、および上記各金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物の弗素(F)として0.5〜10%含有し、かつ、α線量が0.02(count/cm2・hr)以下であることを特徴とする低レベルα線ガラス。

IPC (3)：

C03C 3/118 ,  C03C 3/115 ,  C03C 4/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 硼珪酸ガラス組成
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-062567   Applicant：ピルキントンピーエルシー