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J-GLOBAL ID：200903033999270345

高周波加熱装置

Inventor： 平井 和美
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993007264
Publication number (International publication number)：1994213462
Application date： Jan. 20, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 食品の中央部に電波を集中させ、食品の外周部と内部の発熱状態を均一にすることにより、食品全体を均一に加熱することのできる加熱性能の良い高周波加熱装置を提供する。【構成】 加熱室11に結合された高周波発生手段13と、加熱室内の両側面に棚を設け、この棚には食品19の中央部に被加熱物と対向する位置に厚肉部20を有する低誘電率材料により構成した被加熱物載置台18を着脱自在に設けるか、被加熱物載置台または食品の上面に、電波集中体を設けるかする構成とした。この構成により被加熱物載置台の厚肉部、あるいは電波集中体の誘電体に電波が集中する作用により、食品の中央部が良く加熱され、周囲からの加熱と相まって均一に加熱できる。また多種類の食品の均一加熱に対応できる。

Claim (excerpt)：

加熱室と、前記加熱室に結合された高周波発生手段と、前記加熱室内の両側面に設けられた棚からなり、前記棚には被加熱物の略中央部に対向する位置に厚肉部を有する低誘電率材料により構成した被加熱物載置台を着脱自在に設ける高周波加熱装置。

IPC (5)：

F24C 7/02 511 ,  F24C 7/02 551 ,  F24C 15/16 ,  H05B 6/64 ,  H05B 6/74