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J-GLOBAL ID：200903034003269717

液浸リソグラフィーのための組成物および方法

Inventor：
ダヤン・ワン

About ダヤン・ワン


Applicant, Patent owner：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

About ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.


Agent (2)： 千田 稔 ,  橋本 幸治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006124957
Publication number (International publication number)：2006309245
Application date： Apr. 28, 2006
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、レジストの樹脂成分と実質的に非混和性である1以上の物質を含む。本発明のさらに好ましいフォトレジスト組成物は、1)Si置換、2)フッ素置換;3)超分岐ポリマー;および/または4)ポリマー粒子を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(a)(i)1以上の樹脂、 (ii)光活性成分、および (iii)該1以上の樹脂と実質的に非混和性である1以上の物質 を含むフォトレジスト組成物を、基体上に適用すること;並びに (b)フォトレジスト組成物を活性化する放射線にフォトレジスト層を液浸露光すること を含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。
IPC (4)：
G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/075
FI (4)：
G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 521
F-Term (10)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC08 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 米国特許出願公開第2005/0084794号明細書
Cited by examiner (18)
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