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J-GLOBAL ID：200903034013933267
指紋撮像装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 富士弥
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994125925
Publication number (International publication number)：1995334646
Application date： Jun. 08, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：
【要約】【目的】 指紋照合システムの照合精度を高めるために、指紋の隆線部分と谷線部分の像を高いS/N比で撮像できる指紋撮像装置を提供する。【構成】 指紋を被検体として指20を被検体対接体22の対接面23に接触させる。この対接面23を被検体対接体22の内部側から偏光フィルタ30を通した光源21で照明し、対接面23に接触した被検体の反射像を撮像装置27で撮像する。ここで、対接面23を照明する光は、対接面23に対し全反射する角度で入射させ、かつ入射面に平行な振動面をもつ直線偏光(P偏光)とする。【効果】 指紋の谷線部分の反射光量は略1であり、隆線部分の反射光量をp1(P)とするとS/N比は1/p1(P)となる。従来の無偏光照明のS/N比はP偏光とS偏光(反射光量p1(S))を含むので、2/(p1(P)+p1(S))であり、p1(P)<p1(S)であるため、S/N比が向上する。
Claim (excerpt)：
透明な被検体対接体と、該被検体対接体の対接面を被検体対接体の内部側から照明する光源と、前記対接面に接触した被検体の反射像を撮像する撮像手段とを具備した指紋撮像装置において、前記対接面を照明する光として偏光を用い、該偏光の該対接面に入射する角度に対応させて該入射する光の設置条件または該入射する光の設置条件と前記反射像を撮像するための光の抽出条件を定めることを特徴とする指紋撮像装置。
IPC (2)：
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