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J-GLOBAL ID：200903034029316578
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996220340
Publication number (International publication number)：1998050593
Application date： Aug. 02, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ウエハ面の位置を高精度に検出し、レチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハ面上に高い光学性能を有して投影することのできる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 照明手段からの露光光で照明した第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に投影する投影露光装置において、該可動ステージ上に反射面を該第1物体面と略同一面上に基準マークを各々設け、該反射面が該投影光学系の結像面に対して傾斜した状態で該基準マークを照明し、該基準マークを該投影光学系を介して該反射面に投影し、該反射面で反射した光束を該投影光学系と該基準マークを介して受光手段で該可動ステージを該反射面の傾斜方向に駆動させながら受光し、該受光素子からの信号を用いて制御手段により該投影光学系の結像位置情報を求めていること。
Claim (excerpt)：
照明手段からの露光光で照明した第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に投影する投影露光装置において、該可動ステージ上に反射面を該第1物体面と略同一面上に基準マークを各々設け、該反射面が該投影光学系の結像面に対して傾斜した状態で該基準マークを照明し、該基準マークを該投影光学系を介して該反射面に投影し、該反射面で反射した光束を該投影光学系と該基準マークを介して受光手段で該可動ステージを該反射面の傾斜方向に駆動させながら受光し、該受光素子からの信号を用いて制御手段により該投影光学系の結像位置情報を求めていることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 9/00 H
