Pat

J-GLOBAL ID：200903034033519688

描画データ処理方法

Inventor： 千々松 達夫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992312265
Publication number (International publication number)：1994163373
Application date： Nov. 20, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】荷電粒子ビーム露光装置、例えば、電子ビーム露光装置を使用した描画を行うために作成された描画データを近接効果補正を行うことができるように処理する描画データ処理方法に関し、データ処理時間の短縮化を図ることができるようにし、しかも、描画時間の長大化をもたらさないようにする。【構成】描画データ上、電子ビーム描画領域1を小領域2に分割して、パターンが存在する小領域2には数値1、パターンが存在しない小領域2には数値0を割り当て、パターンが存在する各小領域2について、周囲の隣接した8つの小領域2に割り付られた数値を加算し、その加算値をドーズ量のランク値として割り当て、このランク値に応じてドーズ量を決定する。

Claim (excerpt)：

描画データ上、荷電粒子ビーム描画領域を、隣接する領域内のパターンにより近接効果が生じる規模の小領域に分割し、パターンが存在する各小領域ごとに、パターンが存在する隣接する小領域との関係を考慮して、描画データについて近接効果補正処理を行うことを特徴とする描画データ処理方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521