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J-GLOBAL ID：200903034067361803
フレキシブルデイスクへの接触磁界転写方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡田 數彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991268441
Publication number (International publication number)：1993081671
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】高い位置精度で且つ効率的な転写を行い得るように改良されたフレキシブルディスクへの接触磁界転写方法を提供する。【構成】中心にスピンドル貫通孔を設け且つ外周近傍にはドライブピン貫通孔を設けたメタルハブを有するフレキシブルディスクから成るスレーブディスクへの接触磁界転写方法であって、前記各貫通孔に対応する位置に各々スピンドル(1′)及びドライブピン(2′)を設けたマグネットチャック(3)により、スレーブディスク(4)を固定し、上下に配置されたマザーディスク(5)、(5)に対しスレーブディスク(4)を相対的に回転させることにより、マザーディスク(5)、(5)のセクターOのギャップとドライブピン(2′)の位置が一致するように位置決めを行ない、次いで、スレーブディスク(4)とマザーディスク(5)、(5)とを接触させてバイアス磁界を印加する。
Claim (excerpt)：
中心にスピンドル貫通孔を設け且つ外周近傍にはドライブピン貫通孔を設けたメタルハブを有するフレキシブルディスクから成るスレーブディスクへの接触磁界転写方法であって、前記各貫通孔に対応する位置に各々スピンドル及びドライブピンを設けたマグネットチャックにより、スレーブディスクを固定し、上下に配置されたマザーディスクに対しスレーブディスクを相対的に回転させることにより、マザーディスクのセクターOのギャップとドライブピンの位置が一致するように位置決めを行ない、次いで、スレーブディスクとマザーディスクとを接触させてバイアス磁界を印加することを特徴とするフレキシブルディスクへの接触磁界転写方法。
IPC (2)：
G11B 5/86 101
, G11B 5/86
