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J-GLOBAL ID:200903034070854128

円柱建て込み精度計測方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳田 良徳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991286915
Publication number (International publication number):1993126574
Application date: Oct. 31, 1991
Publication date: May. 21, 1993
Summary:
【要約】【構成】 本願の円柱建て込み精度計測方法は、所定位置から円柱の複数の基準点までの距離を所定時間の前後で計測し、これらの計測データから複数の基準点の変位量を求め、これらの変位量から円柱の建て込み精度を求める。また、装置1は、所定位置から円柱の複数の基準点までの距離を計測する計測手段2〜5と、各基準点の変位量から円柱の建て込み精度を求める演算処理手段と8、表示手段11とを具備する。【効果】 計測方法全体が非常に簡単になり、迅速に円柱の建て込み精度を求めることができる。したがって、工期の短縮、計測費用の大幅な低減が可能になる。また、熟練技術者でなくとも容易に取り扱うことができるので、簡便かつ迅速に建て込み精度を求めることができる。
Claim (excerpt):
地盤に建て込み中の円柱の基準点の変位量を計測することにより前記円柱の建て込み精度を求める方法であって、前記地盤の所定位置から前記円柱の外周面の複数の基準点までの距離を所定時間の前後においてそれぞれ計測し、これらの計測データに基づいて前記複数の基準点の前記所定時間における変位量を求め、これらの変位量から前記円柱の建て込み精度を求めることを特徴とする円柱建て込み精度計測方法。
IPC (3):
G01C 15/00 ,  E02D 7/00 ,  G01B 21/00

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